실리콘 칩 광택액: 실리콘 칩과 같은 반도체 재료의 표면 굵기/중간 광택에 적용되며, 가장 큰 특징은 광택 제거 속도 (0.9 μm/min) 가 높은 동시에 여러 번 재활용 할 수 있다는 것입니다. 재활용 과정에서 광택 제거 속도 및 광택 후 표면 품질이 안정되어 광택액 사용 비용을 효과적으로 낮출 수 있습니다.광택 후 웨이퍼 표면의 미세 거친도는 0.2nm 이하이며, 이미 국내 유명 광택 필름 생산 라인에서 사용되고 있으며, 생산 응용 요구에 완전히 부합하며, 기존 국외 동종 수입 제품을 대체할 수 있다.

외관 유백색 또는 미청색 투명 용액.

　　기술 지표

함량(SiO2% 기준) - 15%-25%

pH 값 - - - - 10.8-11.8

비중(20℃)--1.10-1.20

입경-------10nm-25nm

점도(20°C) - 25c.p 미만

　당사는 전문적인 실험실에서 각종 재료의 광택액을 연구 개발하여 서로 다른 재질에 따라 광택액을 배치할 수 있습니다.전화 문의를 환영합니다: