광학 마이크로전자 정화 공정은 일정 공간 범위 내의 공기 중의 미세먼지 입자, 유해 공기, 세균 등의 오염물을 제거하고 실내의 온습도, 청정도, 실내 압력, 기류 속도와 기류 분포, 소음 진동 및 조명, 정전기 제어를 어느 한 수요 범위 내에서 하는 것으로 정의하며, 특별히 설계된 밀폐 공간에 주어진다.
광학마이크로전자정화공정도 무진실 또는 청정실이라고 하는데 현재 이미 반도체, 정밀제조, 액정제조, 광학제조, 선로판제조와 생물화학, 의약, 식품제조 등 업종에서 없어서는 안되거나 없어서는 안될 중요한 시설이다.최근 몇 년 동안 기술의 혁신 발전으로 인해 제품의 고정밀도, 세소형화에 대한 수요가 더욱 절실해졌다. 예를 들어 초대형 적체회로의 연구 제조는 세계 각국이 과학기술 발전에서 매우 중시하는 프로젝트가 되었고 우리 회사의 디자인 이념과 시공 기술은 업계에서 선두적인 위치에 있다.
광학 마이크로 전자 정화 공정은 일반적으로 다음과 같습니다.
1. 청정생산구역
2. 청정보조실(인원정화용방, 재료정화용실과 일부 생활용실 등 포함)
3. 관리구역(사무, 당직, 관리와 휴식 등 포함)
4. 설비 구역(정화 에어컨 시스템 응용, 전기용 주택, 고순수 및 고순수 가스용 주택, 냉열 설비용 주택 포함)
광학 마이크로전자 정화 공정 정화 원리
기류→초효정화→에어컨→중효정화→풍기송풍→배관→고효률정화풍구→방에 불어넣기→먼지세균을 가져가다
등 입자 → 환풍 블라인드 → 초효 정화 이상 과정을 반복하면 정화 목적을 달성할 수 있다.
광학 마이크로전자 정화 공정 정화 파라미터
환기 횟수: 100000레벨 ≥15회;10000 레벨 ≥ 20 회;1000≥30회.압차: 메인 작업장 대 인접 방 ≥ 5Pa
평균 풍속: 10급, 100급 0.3-0.5m/s;온도 겨울 > 16 ℃;여름 <26 ℃;파동 ± 2 ℃.
온도 45-65%;GMP 분제 작업장은 습도가 50% 정도가 적당합니다.전자 작업장은 정전기가 발생하지 않도록 습도가 약간 높다.
노이즈 ≤ 65dB(A);신풍 보충량은 총 송풍량의 10~30%입니다.조도 300LX.